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特气系统知识分享：一般混合气体

由两种以上气体混合配制而成的气体,而且主要标出大致浓度,即可满足使用要求,这种气体称为一般混合气体。

对气体分析仪用气体,如含氢10%，其余是氦的混合气以及含甲1烷5%或10%；含氢40%，其余是氮或氦的混合气被用作氢火焰总烃检测仪的燃料气。

在测定放1射性物质时,使用的混合气有下列几种组成:含异丁烷0.95%,或含丁烷1.3%，或含丙烷1.5%，或含甲1烷5%～10%，均以氦为底气。

深海呼吸用含氧20%～60%,其余是氮或氦的混合气。激光用气含CO24%～16%,N210%～25%，其余是氦。

光化学反应、动植物实验室和金属腐蚀等研究用的混合气因关系到公害问题,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氢等都要保持低浓度。

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试验室集中供气系统的优点

针对过去使用中存在的问题，现代试验室对载气的使用环境进行了改革，即 “集中供气系统”，即将使用气体（以下简称载气）集中贮存，然后通过压差的原理将气体经过金属或其他材质管路送至用气点。其优点主要有以下几点：

1、首先解决气瓶的放置问题。气瓶间的位置如果可能尽量位于与试验室相对独立的房间，如果与试验室在同一大楼内，则气瓶间的位置要尽量位于人1流较少并且独立的房间，这种方式可使气瓶与工作人员及仪器完全隔离，即使有害气体有泄漏，也不会发生直接伤害。气体配比仪采用高精度质量流量计，电化学抛光316L不锈钢管件，双卡套或者VCR气体接头。

2、其次气体混合的问题。将所有载气气瓶根据气体性质分别集中在一个气瓶间中与助燃气体分开存贮。

3、再次是解决气瓶压力的问题。每种气体可以将多瓶气体并联然后通过一个出口统一减压后运送气体至使用点。因为气瓶间是相对独立的，整个气路系统压力1大的地方也是气瓶出口处，因此这种方式将气瓶压力可能发生的危险缩小至气瓶间内，可对人体及仪器的伤害可降到1低。特种气体的应用领域主要在集成电路制造、太阳能电池、化合物半导体、液晶显示器、光纤生产四大领域,其中主要应用于半导体集成电路的生产制造。

小流量气体净化系统

高纯供气系统主要应用于钢瓶气、管道气及气体发生器等的高纯连续供气，应用于超微量水、氧分析仪、气相色谱仪、常压离子质谱仪等各类气体分析仪器纯化载气或零点气，也可用于超高纯度气体管道安装施工中的吹扫气体，更可以为半导体工艺设备提供超高纯的工艺气体。气体净化系统根据需求采用常温或者高温吸附剂，电化学抛光316L不锈钢管件，出气口配置微米过滤器，其气体纯化指标达到各项杂质含量小于1ppb的世界先进水平。

气体净化系统根据需求采用常温或者高温吸附剂，电化学抛光316L不锈钢管件，出气口配置微米过滤器，其气体纯化指标达到各项杂质含量小于1ppb的世界先进水平。

气体配比仪采用质量流量计，电化学抛光316L不锈钢管件，双卡套或者VCR气体接头。